ArF脂環族系単層レジスト

2MAdMA-MLMA


富士通と富士通研究所がパターニングでは汎用アルカリ現像液が使えず、密着性に欠けるが透明性とエッイング耐性を兼ね備えた脂環構造に注目して1995年に開発した、密着性が高い新しいレジストです。

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