ワンチップ・スーパーコンピュータ

one-chip super computer


1960年代以降、「ムーアの法」則通りに発展してきた半導体産業であったが、シリコンウエハー上にトランジスタを形成するための技術として利用されてきた、配線を刻むリソグラフ印刷技術が2005年ころには物理的な限界に達しようとしていることから、米国政府は新たなリソグラフ技術の研究に向けたプロジェクトとして、「超紫外線(extreme ultraviolet)」技術を開発しようというプロジェクトや、IBMによるX線利用のプロジェクト、ルーセント・テクノロジーズ社のニューイオン電子研究(ion electrons)に関するプロジェクトなどに参画していました。

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